等离子去胶机在高校微纳加工中的应用研究:实现光刻胶无残留去除与晶圆无损清洁的关键技术
微纳科研的基础保障 等离子去胶机作为高校微纳加工平台的关键设备,其工艺水平直接影响着研究结果的可靠性和重复性。随着器件尺寸的不断缩小和新材料的不断涌现,对去胶技术提出了更高要求。掌握等离子去胶的核心技术,将有力支撑高校在微纳科技领域的创新研究。-
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